В современном процессе изготовления изделий микроэлектроники основное место занимает фотолитография – способ создания на поверхности подложки определённого рисунка с заданными характеристиками. Повышения качества фотолитографического изображения можно добиться путём подбора оптимального источника излучения. В данной работе представлен анализ влияния неравномерного распределения яркости на источнике на качество изображения.

Никифорова Д.В. (науч. рук. Иванова Т.В.) Исследование влияния неравномерного распределения яркости источника освещения в оптической литографии на качество изображения // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2022]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/9261