Фотонные топологические изоляторы представляют собой структуры, поддерживающие локализованные краевые моды, защищенные глобальными симметриями структуры от рассеяния на дефектах. Современное описание подобных структур основано на симметрийном анализе блоховских мод, требующем либо тщательного аналитического исследования, либо многократного численного моделирования, что особенно затруднительно при исследовании топологических переходов. В настоящей работе мы предлагаем альтернативный подход, позволяющий обнаруживать топологические переходы из анализа эффективных материальных параметров субволновых структур.

Шапошников Л.А., Бобылев Д.А., Сахно Д.И. (науч. рук. Горлач М.А.) ИССЛЕДОВАНИЕ ПОВЕДЕНИЯ ЭФФЕКТИВНЫХ МАТЕРИАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ МЕТАМАТЕРИАЛОВ ПРИ ТОПОЛОГИЧЕСКИХ ПЕРЕХОДАХ // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2022]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/7775