В рамках работы проведена оценка допустимых ошибок позиционирования при отображении отражательных рельефно-фазовых голограмм-проекторов на твердом носителе с помощью установок электронно-лучевой литографии. Работа выполнена методом численного моделирования процессов синтеза и восстановления голограмм Френеля в виртуальном пространстве. По итогам анализа технологических параметров современных комплексов электронно-лучевой литографии установлено, что существует возможность изготовления голограмм-проекторов с ошибками позиционирования, приводящими к не более чем 20% уменьшению числа допустимых уровней порога, применимых для реализации проекционного фотолитографического процесса в глубоком ультрафиолете.
Старовойтов С.О. (науч. рук. Корешев С.Н.) Оценка допустимых ошибок позиционирования при отображении синтезированных голограмм-проекторов Френеля на носителе для последующего их использования в фотолитографическом процессе // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2021]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/5484