Развитие микроэлектроники требует создание процессоров с максимальным числом рабочих элементов на единицу площади. Одним из подходов к решению данной проблемы является создание микрорельефа с размерностью элементов менее 20 нм, который самопроизвольно возникает при изменении термодинамических или кинетических условий при самоорганизации блоксополимеров на твердой подложке. Перспективными блоксополимерами для подобных применений являются системы, построенные из блоков с сильно различающимися по термодинамической совместимости структурными элементами, например, содержащие силоксановые и трифторметильные блоки.
Гусева Е.Н. (науч. рук. Зуев В.В.) Самоорганизация силоксансодержащих блоксополимеров как потенциальная основа развития микропроцессоров // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2020]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/3628