Проведен анализ профиля слоя, изготовленного из кремния и сформированного методом магнетронного распыления на образцах, изготовленных из кварцевого стекла. Исследована зависимость изменения подаваемой мощности на магнетрон, расстояния от магнетрона до плоскости образцов, а также давления в вакуумной камере на форму профиля слоя. Проведено сравнение экспериментальных результатов с расчётными.
Терещенко И.Б. (науч. рук. Губанова Л.А.) Определение характеристик ВЧ магнетрона с измененной конструкцией магнитной системы // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2020]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/3306