В работе представлен детальный анализ экспериментальных исследований по фоторасслоению As2S3. Так, впервые представлен протокол построения направлений межслоевых сил для двумерных материалов по результатам первопринципных расчётов с решением GW@BSE и анализом частичных волновых функций с локализацией максимального перехода в обратном пространстве ячейки. Разработанный протокол был валидирован на материалах MoS2, WS2, гетероплёнках MoS2/WS2, MoSe2/WSe2 и успешно применён к As2S3.

Смирнов С.А. (науч. рук. Орехов Н.Д.) Моделирование фотохимических процессов в as2s3 при облучении светом ик и уф диапазонов // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2026]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/17100