Данная работа посвящена разработке упрощенной и более доступной технологии производства ДНК-микрочипов для массового параллельного секвенирования (NGS). В основе предлагаемого метода лежит использование фотолитографии с применением омнифобного фоторезиста, что позволяет сократить процесс создания чипа до трех этапов. Ключевым преимуществом разработки является формирование паттернированной поверхности стеклянной подложки. Это обеспечивает контролируемое создание кластеров ДНК в заданных областях в отличие от существующих технологий, где хаотичное расположение кластеров затрудняет детекцию сигналов. Новый подход упрощает производство, снижает стоимость чипов и повышает точность секвенирования, что способствует развитию генетических исследований.

Кот Е.А., Логачева С.А. (науч. рук. Карцев Д.Д.) Разработка технологии производства днк микрочипов методом фотолитографии для массового параллельного секвенирования // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2026]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/16919