В работе были получены наноструктуры на основе тонких пленок алюминия обладающие плазмонным резонансом без использования литографических методов. Локализованный плазмонный резонанс возникает вследствие формирования в пленке алюминия наноотверстий, возникающих при травлении через маску анодного оксида алюминия, выращенного на поверхности. Процесс анодирования происходит в щавелевой кислоте и контролируется оптически для получения остаточной пленки алюминия известной толщины. Коэффициент отражения, при котором процесс анодирования останавливается рассчитывается по формулам Френеля, а значение эффективного показателя преломления пористого слоя оксида, оценивается по СЭМ изображениям. Результаты работы могут быть использованы в сенсорах, солнечных батареях и других устройствах наноплазмоники.

Никитин И.Ю., Баранов М.А., Щербинин Д.П., Рогачев А.А. (науч. рук. Вартанян Т.А.) Получение наноструктур на основе тонкой пленки алюминия для устройств плазмоники // Сборник тезисов докладов конгресса молодых ученых. Электронное издание. – СПб: Университет ИТМО, [2025]. URL: https://kmu.itmo.ru/digests/article/14781